삼성이 30년 개발한 반도체 세정 기술 中 유출 시도하다 덜미

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삼성이 30년 개발한 반도체 세정 기술 中 유출 시도하다 덜미
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삼성전자의 세정공정 엔지니어 출신인 B씨 등은 2021년 10월부터 지난해 4월까지 삼성전자 자회사이자 국내 최대 반도체 장비 제조업체인 M사의 퇴사자에게 세정 장비 챔버부(장비 내에 구성된 세정작업이 실제로 진행되는 부분) 도면을 구한 뒤 이를 도용해 수출용 세정 장비를 제작한 혐의를 받는다. 이후 중국 업체를 위한 세정 장비를 개발하기로 계약하고 국내 반도체 업체들의 기술자료를 불법 수집해 세정 장비 개발을 주도한 것으로 확인됐다.

삼성전자와 자회사가 개발한 ‘국가 핵심 기술’인 반도체 세정 장비를 중국 기업에 수출한 이들이 재판에 넘겨졌다. 이들은 “자체 개발한 것”이라며 혐의를 부인했지만, 검찰이 새롭게 개발한 포렌식 기법으로 기술 원본의 흔적인 ‘ 디지털 지문 ’을 확인하면서 범행 일체가 드러났다.

삼성전자의 세정공정 엔지니어 출신인 B씨 등은 2021년 10월부터 지난해 4월까지 삼성전자 자회사이자 국내 최대 반도체 장비 제조업체인 M사의 퇴사자에게 세정 장비 챔버부 도면을 구한 뒤 이를 도용해 수출용 세정 장비를 제작한 혐의를 받는다. M사의 세정 장비이송 로봇 도면을 도용해 새로운 수출용 로봇을 설계, 제작하거나 삼성전자의 세정공정 레시피를 활용해 새로운 레시피를 작성한 혐의도 받는다.B씨 등이 유출하려 한 기술은 반도체 제조공정에서 발생하는 오염물을 제거해 불량률을 낮추는 기술이다. 반도체는 ‘웨이퍼’라는 원판 위에 레이저, 화학약품 등을 이용하여 회로를 붙이고 깎는 작업을 반복하는데, 그 과정에서 머리카락 10000분의 1 굵기의 이물질이 발생한다. 이물질이 제대로 제거되지 않으면 불량품이 될 가능성이 커진다.검찰 조사 결과 B씨는 2018년부터 고연봉을 제시하며 삼성전자 출신 등 국내 반도체 제작 전문가들을 영입해 세정 장비 관련 업체를 세웠다.

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